磁控溅射铝膜的表面形貌及粗糙度的原子力显微镜观测  

作　　者：段颖妮[1] 毛莉萍[1] 

机构地区：[1]新疆医科大学医学工程技术学院,新疆乌鲁木齐830011

出　　处：《科技视界》2015年第10期60-60,72,共2页Science & Technology Vision

基　　金：新疆医科大学科研创新基金项目(XJC2013237)

摘　　要：采用直流磁控溅射方法在(111)取向的单晶Si片上沉积单层Al膜,并将样品分为两组退火,第一组样品分别在200、300和400℃退火10min;第二组样品在300℃分别退火5、10和15min。原子力显微镜观测退火膜的表面形貌及粗糙度表明,随着退火温度的升高或退火时间的增加,表面更加平整,粗糙度明显减小,膜的致密性得到改善。原子的表面扩散是造成薄膜表面趋于平滑的主要原因。

关 键 词：直流磁控溅射 薄膜 表面形貌 表面粗糙度 退火 

分 类 号：O485[理学—固体物理]