真空镀膜稳定性与均匀性研究  

作　　者：刘海勇[1] 刘丽娜[1] 高鹏[1] 

机构地区：[1]天津核工业理化工程研究院,天津300180

出　　处：《中国新技术新产品》2015年第7期59-60,共2页New Technology & New Products of China

摘　　要：真空镀膜的质量受多种因素的影响,镀膜工艺参数等诸多要素直接影响到真空镀膜的稳定性与均匀性。本文以真空蒸发镀膜和PECVD法为例,详细分析了影响镀膜稳定性与均匀性的工艺问题,希望对于实际真空镀膜工作质量的提供有所启发和帮助。

关 键 词：真空镀膜 蒸发镀 PECVD 稳定性 均匀性 

分 类 号：TB43[一般工业技术]