湿法刻蚀制备微透镜阵列的影响因素  

Wet Etching Fabricate Micro Lens Array

作　　者：李源 韩建崴 徐珍华 

机构地区：[1]中山新诺科技股份有限公司,广东中山528437

出　　处：《广东化工》2015年第9期75-76,66,共3页Guangdong Chemical Industry

基　　金：广东省引进创新科研团队项目(2011G054)

摘　　要：湿法刻蚀在直接制备微透镜阵列以及制备微透镜阵列复制模具中得到了广泛应用。文章从基材、刻蚀保护层、曝光方式、刻蚀液、刻蚀工艺条件几个方面,介绍其对湿法刻蚀制备凹微透镜阵列品质的影响,并给出了批量制备高良率的微透镜阵列的建议。Wet etching is widely used in fabricating of micro lens array and copy moulds. The article introduces the influence factors to the quality of the concave MLA fabricating by wet etching, such as substrate, etching protect layer, exposure methods, etching agent and etching process, and gives some advice of batch production MLA with good yield.

关 键 词：微透镜阵列 湿法刻蚀 基材 无掩膜曝光 

分 类 号：TQ[化学工程]