第十九讲 真空溅射镀膜  

作　　者：张以忱[1] 

机构地区：[1]东北大学,辽宁沈阳110004

出　　处：《真空》2015年第3期79-80,共2页Vacuum

摘　　要：（接2015年第2期第80页）三极溅射的电流密度最高约2 m A/cm2,放电气压可为1~0.1 Pa,放电电压1 000~2 000 V,镀膜速率约为二极溅射的两倍。但由于热丝电子发射,难以获得大面积均匀的等离子区,不适于镀制大工件。在利用冷阴极辉光放电的溅射装置中,阴极本身又兼作靶、与此不同的是,三极（以及四极）等离子体溅射装置是在产生热电子的阴极和阳极之间产生弧柱放电,

关 键 词：溅射镀膜 冷阴极 弧柱 磁控溅射 镀膜设备 三极 热丝 热阴极 工作气体 辉光放电 

分 类 号：O484[理学—固体物理] TB4[理学—物理]