应用于大面积光刻的激光图案检测系统  

Interference lithography detection system in large area

作　　者：侯煜[1,2] 胡贞[1,2] 王作斌[1,2] 翁占坤[1,2] 

机构地区：[1]长春理工大学电子信息工程学院,长春130022 [2]长春理工大学国家纳米操纵与制造国际联合研究中心,长春130022

出　　处：《中国科技论文》2015年第8期948-951,956,共5页China Sciencepaper

基　　金：国家自然科学基金资助项目(61176002);高等学校博士学科点专项科研基金资助项目(20112216110002);吉林省科技发展计划资助项目(201115157;20110704)

摘　　要：基于激光干涉光刻的基本原理,设计了新型的可应用于大面积光刻的激光图案检测系统,并阐述了利用电荷耦合元件对光刻图案的CMOS实时检测及实现大面积光刻的方法。实验结果表明,使用激光干涉光刻技术可以产生大面积的亚微米级周期性图案。该方法提供了得到高分辨、无限焦深、大面积光刻的可能性。The laser interference lithography is applied to design a lithographic patterns detection system for large area lithography by using complementary metal oxide semiconductor(CMOS). Experiments show that laser interference lithography technique is feasible to produce the sub-micron periodic graphics in large area. It shows the potential of interference lithography on high reso- lution, infinite focal depth and large area.

关 键 词：激光干涉光刻 压电陶瓷控制 CMOS实时检测 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]