浅析平版胶印机湿润装置及其设计  

Analysis of Offset Lithography and Wet Device And Its Design

作　　者：马仲奎 梁宁建 

机构地区：[1]贵州省机电研究设计院,贵州贵阳550003

出　　处：《装备制造技术》2015年第7期86-89,共4页Equipment Manufacturing Technology

摘　　要：阐述了平板胶印机湿润装置的作用、工作原理、结构形式及发展趋势,通过对平板胶印机典型湿润装置进行动力学的建模与分析,阐明其设计要点,对平板胶印机湿润装置设计和改进具有一定的指导意义。The present paper elaborates the role of the humid plate offset press equipment, working principle,structure and development trend. Through the study of the dynamics of typical wet plate offset press device modeling and analysis. To clarify the design key points. The humid plate offset press equipment has a certain guiding significance to the design and improvement.

关 键 词：湿润装置 水墨平衡 结构设计 建模与分析 

分 类 号：TS825[轻工技术与工程]