脉冲磁控溅射电源控制策略的研究  

Research of Control Strategy of Pulse Magnetron Sputtering Power Supply

作　　者：刘洋[1] 黄西平[1] 

机构地区：[1]西安理工大学自动化与信息工程学院,陕西西安710048

出　　处：《电源技术应用》2015年第7期29-34,共6页Power Supply Technologles and Applications

摘　　要：基于脉冲磁控溅射电源等离子体负载的特殊性及镀膜过程对输出电压电流的控制需求，提出了一种PI控制电压环与滑模变结构控制电流环相结合的复合控制策略。文中建立了移相全桥变换器的平均状态空间模型，重点对滑模变结构电流控制方法进行了分析与设计，采用指数趋近律法削弱抖振，并对影响性能的参数进行了研究。仿真和实验结果表明：所提出的控制方法克服了传统方式下可能出现的起辉失败、负载扰动下电流波动大等缺点，提高了起辉成功率，并且对输入扰动和负载扰动具有很强的抑制能力。

关 键 词：磁控溅射电源 滑模变结构控制 移相全桥 起辉过程 

分 类 号：TP273.3[自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]