浙江大学石墨烯化学气相沉积生长研究获进展  

作　　者：新型 

出　　处：《化工新型材料》2015年第11期245-245,共1页New Chemical Materials

摘　　要：近日，浙江大学高分子科学与工程学系、硅材料国家重点实验室陈红征教授团队的徐明生教授小组在石墨烯化学气相沉积（CVD）生长方面有新的发现，相关工作发表在《先进材料》上。自2004年揭示石墨烯的优异性能及潜在的应用后，石墨烯受到了科学界和工业界的广泛关注；石墨烯薄膜在柔性透明导电膜等领域市场化应用的前提是高质量石墨烯薄膜的规模化可控制备技术，而可控制备技术的建立需要对石墨烯成核和成长有深刻理解。

关 键 词：化学气相沉积 浙江大学 石墨 生长 硅材料国家重点实验室 高分子科学 制备技术 透明导电膜 

分 类 号：O613.71[理学—无机化学]