纳米光栅制作技术的最新进展  

作　　者：李秋琦[1] 孙亚东[1] 陈旗湘 刘旭静[1] 余森江[1] 

机构地区：[1]中国计量学院应用物理系

出　　处：《海峡科技与产业》2016年第2期78-79,共2页Technology and Industry Across the Straits

基　　金：浙江省大学生科技创新项目(No.2015R409027);国家自然科学基金(No.11204283)资助课题

摘　　要：随着信息化社会的高速发展,现代光栅逐渐应用于信息处理及量子光学等领域,所以纳米光栅的制作变得十分重要。作者首先简要介绍了纳米光栅制作的几种传统方法,包括机械刻划、全息光刻、飞秒激光直写等。传统方法均存在成本高、工期长、条件苛刻、制作过程复杂且难以控制等缺点。在此基础上,作者综述了最新发展起来的基于薄膜应力自组装制作纳米光栅的方法,并对该方法的实验原理、物理机制和适用范围进行了深入讨论。

关 键 词：薄膜 应力 自组装 纳米光栅 PDMS 

分 类 号：TN256[电子电信—物理电子学]