磁控溅射技术制备CrAlN涂层的研究进展  

Recent Developments on Magnetron Sputtering of CrAlN Coating

作　　者：金浩[1,2] 张莹莹 时卓[2,3] 张罡[4] 

机构地区：[1]沈阳理工大学装备工程学院,沈阳110159 [2]沈阳工业大学材料科学与工程学院,沈阳110870 [3]辽宁省轻工科学研究院,沈阳110036 [4]沈阳理工大学材料科学与工程学院,沈阳110159

出　　处：《材料导报》2016年第3期54-59,共6页Materials Reports

基　　金：辽宁省教育厅重点实验室基础研究资助项目(LZ2014013)

摘　　要：概述了采用不同磁控溅射技术制备CrAlN涂层的国内外研究现状与发展趋势,重点分析了CrAlN涂层的结构、力学性能、涂层氧化行为与耐腐蚀性能。提出了不同磁控溅射制备工艺的进一步优化结合和新型磁控溅射制备工艺的研究是未来磁控溅射技术制备CrAlN涂层的新趋势,在进一步提高CrAlN涂层性能的基础上,需深入探究该类硬度涂层的工业新应用潜力。The general developments of CrAlN coatings by different magnetic sputtering technologies are sum- marized. The microstructure,mechanical properties, antioxidant activity and corrosion resistance of CrAlN coatings are analyzed. Process optimization of different magnetron sputtering technologies and novel preparation process of magnetron sputtering are the new trends of magnetron sputtering CrAlN coatings in the future. New application po- tential should be further explored on the basis of improving the performance of CrAlN coatings.

关 键 词：磁控溅射 CRALN 涂层 

分 类 号：TG174.444[金属学及工艺—金属表面处理]