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作 者:安倩[1] 侯金[1] 王文珍[1] 杨春勇[1] 钟志有[1]
机构地区:[1]中南民族大学电子信息工程学院智能无线通信湖北省重点实验室,湖北武汉430074
出 处:《光学学报》2016年第3期218-224,共7页Acta Optica Sinica
基 金:国家自然科学基金(11504435;11147014);湖北省自然科学基金(2013CFA052);中南民族大学中央高校基本科研业务费(CZW15044)
摘 要:提出在非晶硅薄膜太阳电池吸收层的上下表面采用亚元对称光栅来提高薄膜电池吸收率。采用严格耦合波分析法研究发现,对于厚度为400 nm 的非晶硅薄膜,在600-750 nm 波长范围内,这种新型光栅能有效地减少从上表面反射的入射光和从下表面透射的泄漏光,并增强吸收层的吸收率。仅在上表面采用亚元对称光栅,优化后的吸收率可以增强71%;仅在下表面采用光栅,吸收率增强24%;在上下表面同时采用光栅,太阳电池的吸收率可以增强81%。本研究为设计易于制作的具有高吸收率的薄膜太阳电池提供了新的思路。Symmetric substructure dual gratings on the upper and bottom surface of the absorption layer are proposed to enhance the sunlight absorption for amorphous silicon thin-film solar cells. Using rigorous coupled wave method, it is found that in 600-750 nm wavelength range, the new gratings can effectively reduce the reflection from the upper surface of the incident light, the leakage transmittance from the bottom surface, and can enhance the absorption of amorphous silicon thin film solar cells with a thin absorption layer thickness of 400 nm. When the grating is adopted only at the upper surface, the optimized absorption can be increased by 71%; when it is adopted only at the bottom surface, the absorption can be increased by 24%; while for the case in which the gratings are adopted at both surfaces, the absorption can be enhanced by 81%. The study can provide new idea on designing high absorption and easily fabricated solar cells.
关 键 词:光电子学 光栅 硅薄膜太阳电池 吸收增强 严格耦合波分析
分 类 号:TN302[电子电信—物理电子学]
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