用SPM纳米刻蚀方法在Ti表面制备纳米结构的研究  

Fabrication of Nanostructures on the Surface of Titanium Film Using SPM Nanolithograpy Technique

作　　者：申自勇[1] 侯士敏[1] 薛增泉[1] 

机构地区：[1]北京大学电子学系,北京100871

出　　处：《真空科学与技术》2002年第4期252-254,259,共4页Vacuum Science and Technology

基　　金：国家自然科学基金 (No 6990 2 0 0 2 ) ;国家科技部 973项目 (No 2 0 0 1CB610 5 0 3 )

摘　　要：本文用导电原子力显微镜 (AFM)针尖诱导局域氧化反应的方法 ,在Ti膜表面制备了TiO2 纳米结构。实验结果表明 ,Ti膜的氧化阈值为 - 7伏 ,制备的TiO2 纳米线的最小线宽达到 10nm ,TiO2 纳米线的高度和宽度随针尖偏压的增大而增大。在优化的氧化刻蚀条件下 ,通过控制针尖偏压和扫描方式制备出了图形化的TiO2 结构 。Using conductive atomic force microscopy (AFM), TiO2 nanowires are fabricated by tip induced nano-oxidation on the surface of Ti thin film. The threshold voltage for Ti oxidation is found to be -7 V and the height and width of TiO2 nanowires increase with the bias of the tip. Under the optimum conditions, fine TiO2 nanowires with 10 nm width can be achieved. Uniform structures are patterned on Ti surface with this technique. The results show that nanolithography based on scanning probe microscopy is a powerful tool for fabricating of novel quantum electronic devices.

关 键 词：原子力显微镜 纳米刻蚀 纳米线 纳米结构 钛表面 二氧化钛 氧化刻蚀 纳米电子器件 扫描探针显微镜 

分 类 号：TN405.7[电子电信—微电子学与固体电子学] TB383[一般工业技术—材料科学与工程]