基于椭圆偏振法的薄膜厚度测量  

作　　者：李勇[1] 李刚[2] 曹小荣[1] 李亮[1] 

机构地区：[1]河南质量工程职业学院,河南平顶山467000 [2]军械工程学院电子与光学工程系,石家庄050003

出　　处：《安阳工学院学报》2016年第4期6-8,共3页Journal of Anyang Institute of Technology

基　　金：河南省科技计划项目(编号:132102310495)

摘　　要：选用Si3N4薄膜和Zr O薄膜两种光学材料作为测试对象以研究椭圆偏振法测量薄膜厚度的精度。实验结果表明,椭圆偏振法的精度较高,但对于数量级在几十个nm的光学薄膜,误差相对较大。该实验为进一步调试和改进测试平台,对单一材料多层膜和不同材料多层膜等更加复杂的膜系进行研究提供了参考。

关 键 词：薄膜技术 薄膜厚度 椭圆偏振法 

分 类 号：TP911.73[自动化与计算机技术]