原子层沉积Al_2O_3钝化膜在太阳电池上的应用研究  

作　　者：权微娟[1] 贺海晏[1] 单伟[1] 王仕鹏[1] 黄海燕[1] 陆川[1] 

机构地区：[1]浙江正泰太阳能科技有限公司

出　　处：《太阳能》2017年第6期29-31,共3页Solar Energy

摘　　要：通过原子层沉积(ALD)法制备晶体硅钝化发射极背面接触(PERC)太阳电池中的Al_2O_3钝化膜,研究ALD工艺三甲基铝(TMA)流量、H_2O流量对Al_2O_3沉积速率的影响。采用不同厚度的Al_2O_3钝化膜制备晶体硅PERC太阳电池,结果显示电池效率随Al_2O_3膜厚的增加呈先升后降趋势,Al_2O_3厚度为7 nm时电池效率最高,达到了19.15%。

关 键 词：原子层沉积 背钝化 AL2O3 

分 类 号：TM914.4[电气工程—电力电子与电力传动]