X射线光谱法测量镀层厚度的适用范围的研究  

作　　者：石鹏远[1] 

机构地区：[1]中国电子科技集团公司第十三研究所,河北石家庄050051

出　　处：《华东科技（学术版）》2017年第7期28-28,453,共2页east china science & technology

摘　　要：镀层厚度对微电子封装外壳的可靠性具有重要影响.分析了 X镀层测厚的原理以及单一镀层测量的饱和厚度.通过工艺实验总结出了双层镀层厚度测量的基线范围.

关 键 词：微电子封装外壳 镀层厚度 X射线 测量极限 

分 类 号：TL271.4[核科学技术—核燃料循环与材料]