高科技人才与中国高新技术产业在美国直接投资的区位选择——以ICT行业为例  

High- tech Talent and Location Choice of Chinese ICT Investment in the United States

作　　者：江娟[1] 王疆[1] 

机构地区：[1]上海理工大学管理学院,上海200093

出　　处：《哈尔滨商业大学学报（社会科学版）》2017年第2期13-18,共6页Journal of Harbin University of Commerce:Social Science Edition

基　　金：国家自然科学基金项目(71071093;71471110);陕西省社会科学基金项目(2015D060)

摘　　要：基于2001-2014年中国信息与通讯技术(ICT)行业对美国直接投资的微观数据,运用负二项回归模型考察东道国高科技人才对中国ICT行业企业直接投资区位选择的影响。实证结果表明,高科技人才与中国ICT行业在美国的直接投资呈正相关,即高科技人才是吸引中国ICT行业跨国投资的重要因素。研究结果对中国ICT行业企业进入美国直接投资具有较强的指导意义。Employing the micro data on China＇s FDI in the United States in the Information and Communications Technology （ICT） industry from 2001 to 2014, a negative binomial regression model is performed to examine the effects of high - tech talent on ICT firms＇ location choice. Findings indicate that high - teeh talent in USA and Chinese ICT investment in the U. S is positively related, namely high - tech talent is an important factor in attracting Chinese cross - border investment in ICT industry. Also, the result has a strong guiding significance for direct investment of Chinese ICT firms in the United States.

关 键 词：高科技人才 美国 区位选择 ICT 

分 类 号：F830.5[经济管理—金融学] F740.27