基于专利分析的极紫外光刻现状研究  

Analysis on Status Quo of EUV Basing on Patents

作　　者：周婧博[1] 

机构地区：[1]天津市科学技术信息研究所,天津300074

出　　处：《科技和产业》2017年第11期62-66,共5页Science Technology and Industry

基　　金：天津市知识产权专项资金项目(2016XX007)

摘　　要：基于极紫外光刻技术相关领域的全球和中国专利数据,从专利申请数量、布局情况、主要申请人等多个方面进行综合性分析,以期对业内机构进行研发工作和政府产业布局有所帮助。The paper uses patents data on EUV from Thomson Innovation Database,to analyzes the status quo of EUV in the perspective of application's annual tendency,main application countries and organizations,patent application distribution,etc.Hope to be helpful for R & D work in research institutions and the government decision-making.

关 键 词：极紫外光刻 专利分析 IC行业 

分 类 号：G306[文化科学]