硅纳米线的场发射性质研究方法  

作　　者：杨秀清[1] 王艳秋[1] 

机构地区：[1]北京电子科技职业学院

出　　处：《中国科技信息》2018年第2期74-74,76,共2页China Science and Technology Information

基　　金：北京电子科技职业学院科研课题;(NO.YZK2017025)

摘　　要：研究硅纳米线的场发射的均匀性、稳定性及寿命问题是制备新型大面积冷阴极纳米功能材料的基础,本文提出了采用透明阳极法测试硅纳米线冷阴极薄膜的场发射特性的实验方法,并对实验方法进行了阐述。

关 键 词：发射性质 硅纳米线 纳米结构材料 冷阴极材料 化学稳定性 微电子工艺 碳纳米管 机械性能 

分 类 号：TB383.1[一般工业技术—材料科学与工程]