PCB激光制版曝光误差分析及校正  

作　　者：刘清源 王英志[1] 胡俊[1] 

机构地区：[1]长春理工大学电子信息工程学院,吉林省长春市130022

出　　处：《电子技术与软件工程》2018年第5期77-77,共1页ELECTRONIC TECHNOLOGY & SOFTWARE ENGINEERING

基　　金：吉林省科技发展计划项目(20150204015GX)

摘　　要：本文所研究的PCB激光制版系统采用了基于空间光调制器的数字光刻技术,文中首先阐述了数字光刻技术的原理,给出曝光强度函数并建立与扫描距离之间的数学模型。之后针对实际曝光过程中存在的曝光误差给出公式,并带入该数学模型中进行分析,给出在一定扫描速度下不同的偏移量对实际曝光位置的影响情况。该分析结果对提高PCB激光制版系统的精度指标具有一定的指导意义。

关 键 词：PCB激光制版 数字光刻 曝光误差 

分 类 号：TN41[电子电信—微电子学与固体电子学]