第十九讲 真空溅射镀膜  

作　　者：张以忱[1] 

机构地区：[1]东北大学,辽宁沈阳110004

出　　处：《真空》2018年第1期68-72,共5页Vacuum

摘　　要：中频反应溅射系统最好同时采用等离子体发射光谱监控系统，并快速响应反应气体供气，使溅射过程更加稳定和反应布气更加均匀。中频磁控溅射双平面靶的PEM控制系统和控制原理如图92和图93所示。

关 键 词：溅射镀膜 等离子体发射光谱 中频磁控溅射 真空 反应气体 监控系统 溅射系统 快速响应 

分 类 号：O484[理学—固体物理] TB4[理学—物理]