中频磁控溅射

作品数：74被引量：186H指数：6
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玻璃表面中频磁控溅射制备氮化铝薄膜的晶面择优取向调控
《真空科学与技术学报》2024年第12期1075-1083,共9页张丽娜 高飞 陆文琪 
氮化铝(AlN)是一种性能优异的陶瓷材料,在微电子、电子元件、高频宽带通信以及功率半导体器件等领域有广泛应用,然而AlN薄膜的一些特性具有显著的各向异性。因此,调控AlN薄膜的择优取向一直备受科研工作者的关注。文章利用中频反应磁控...
关键词：中频磁控溅射 玻璃基片 ALN薄膜 择优取向 
使用电子回旋波共振等离子体源辅助中频磁控溅射沉积氧化铌薄膜
《中国表面工程》2024年第4期273-279,共7页殷冀平 吕少波 蔺增 巴德纯 
国家自然科学基金(51775096);中国科学院-威高研究发展计划攻关项目([2007]006);中央高校基本科研业务费项目(N2003009)。
中频磁控溅射虽相较于电子束蒸发成膜质量更好,但不可避免仍然存在一部分颗粒物,将严重影响光学薄膜的质量和光学特性。研究了使用电子回旋波共振(ECWR)等离子体源作为辅助设备与中频磁控溅射相配合沉积的氧化铌薄膜,进行了等离子体诊...
关键词：电子回旋波共振等离子体 中频磁控溅射 等离子体诊断 感应耦合等离子体 氧化铌薄膜 
中频磁控溅射沉积金属薄膜技术的研究进展
《科技风》2024年第14期4-6,共3页林翊楠 张天昊 黄基智 杨富国 
佛山科学技术学院学术基金项目资助;佛山科学技术学院大学生创新创业训练计划项目资助;广东大学生科技创新培育专项资金资助项目(编号:pdjh2022b0549);佛山市土壤污染修复工程技术研究中心。
中频磁控溅射沉积金属薄膜是真空镀膜技术中最常用的技术之一,目前在科学研究及工业生产中都得到了长足发展。在沉积金属薄膜过程中的工艺参数如中频电流、脉冲负偏压、沉积时间等对薄膜结构及性能的影响研究多分散于不同的文献中,不利...
关键词：中频磁控溅射 金属薄膜 研究进展 
中频磁控反应溅射氧化硅(SiO_(x))薄膜绝缘性的研究
《真空》2023年第2期34-38,共5页张汉焱 郑丹旭 沈奕 陈玉云 
广东省企业科技特派员项目(GDKTP2021033800)。
本文采用兆欧表测量电阻的方法,研究了中频磁控溅射氧化硅(SiO_(x))薄膜的绝缘性。利用XRD和FTIR对薄膜进行了表征。结果表明:溅射产物为无定型SiO_(x);兆欧表探针接触薄膜瞬间的电阻Ri与FTIR图谱位于900cm^(-1)波数附近的吸收峰a和760c...
关键词：中频磁控溅射 氧化硅薄膜 绝缘性 电阻 傅里叶变换红外光谱 含氧量 
基体偏压对316L不锈钢表面多层Ti-DLC薄膜摩擦及腐蚀行为的影响被引量：4
《中国表面工程》2023年第1期189-199,共11页李超 马国佳 孙刚 张博威 刘星 张昊泽 吴俊升 
国家自然科学基金(51771027);北京市自然科学基金(2212037);国家科技基础资源调查专项(2019FY101400)资助项目。
在严苛海洋环境下,传统单一的Ti掺杂类金刚石薄膜(DLC)无法满足减摩耐磨及耐腐蚀性能的要求,仍须进一步探索.为促进DLC薄膜在严苛海洋环境下的应用,采用中频磁控溅射技术在316L不锈钢上制备Ti/TiN/TiCN/Ti-DLC复合薄膜.通过SEM、拉曼光...
关键词：基体偏压 中频磁控溅射 类金刚石蒲膜(DLC) 摩擦磨损性能 腐蚀 
衬底加热温度对WC-DLC涂层结构和摩擦磨损性能的影响被引量：4
《真空科学与技术学报》2022年第5期364-370,共7页贾东旭 刘星 孙刚 马国佳 
采用中频磁控溅射和电弧离子镀复合工艺,在316L不锈钢基体上制备WC掺杂的类金刚石涂层,通过相组织结构分析、硬度测试和摩擦磨损试验,研究了衬底加热温度分别为150℃、250℃、350℃和450℃时对类金刚石薄膜结构和摩擦磨损性能的影响。...
关键词：中频磁控溅射 加热温度 WC-DLC涂层 磨损率 
第二十一讲 真空卷绕镀膜
《真空》2022年第1期86-88,共3页张以忱 
(接2021年第6期88页)3.4中频磁控卷绕镀膜中频磁控卷绕镀膜是利用中频磁控溅射技术来实现卷绕镀膜的方法。中频交流磁控溅射通常采用两个尺寸大小和外形相同的靶并排布置或相对摆放,称为孪生靶。将双极脉冲中频电源的二个输出端连接到...
关键词：卷绕镀膜 中频磁控溅射 二次电子 孪生靶 中频电源 中频交流磁控溅射 负电位 绝缘层 
中频磁控溅射制备氧化钨薄膜及电致变色性能研究被引量：1
《真空》2021年第5期50-56,共7页魏梦瑶 王辉 韩文芳 王红莉 苏一凡 唐春梅 代明江 石倩 
广东特支计划资助(2019BT02C629);广东省自然科学基金团队项目(2016A030312015);广东省科学院科技创新发展专项(2018GDASCX-0402);广州市科技计划项目(202007020008)。
采用中频磁控溅射方法,在氧化铟(ITO)玻璃上采用氧化钨(WO_(3))陶瓷靶沉积薄膜,研究溅射气压对WO_(3)薄膜结构与光学性能的影响规律,并对其电致变色行为进行了探讨。采用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)分析了WO_(3)薄膜的成分结...
关键词：WO_(3)薄膜 中频磁控溅射 电致变色 溅射气压 循环寿命 
基材偏压对中频磁控溅射氮化铬薄膜微观结构和性能的影响被引量：2
《电镀与涂饰》2020年第21期1486-1490,共5页万松峰 
2020广东省科技创新战略专项资金(pdjh2020b1267);广东省教育厅2017年度特色创新类项目(2017GGXJK094);2018东莞市社会科技发展项目(20185071561262)。
采用中频磁控溅射系统在手机不锈钢装饰件上沉积氮化铬薄膜,利用X射线衍射、扫描电镜、纳米压痕仪和球盘摩擦仪考察了基材偏压对薄膜微观结构、沉积速率、显微硬度和摩擦性能的影响。结果表明:氮化铬薄膜主要为面心立方晶相结构,存在(2...
关键词：氮化铬 中频磁控溅射 基材偏压 微观结构 显微硬度 摩擦学 
温度对中频磁控溅射沉积金属锆膜的影响被引量：1
《兵器装备工程学报》2020年第10期166-169,共4页高毅 李兰 刘际伟 徐金江 
为了解决复杂环境下玻璃不耐腐蚀,致密性不理想的问题,以直流脉冲离子源辅助中频磁控溅射沉积在玻璃表面制备了纯锆镀层和氮化锆镀层,研究了沉积温度对其微观形貌、粗糙度、纳米压痕硬度的影响。结果表明:随沉积温度升高,锆膜/氮化锆膜...
关键词：中频磁控溅射 锆膜 氮化锆 
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