中频磁控溅射沉积金属薄膜技术的研究进展  

作　　者：林翊楠 张天昊 黄基智 杨富国 

机构地区：[1]佛山科学技术学院环境与化学工程学院,广东佛山528000 [2]广东瀚江环保科技有限公司,广东佛山528000

出　　处：《科技风》2024年第14期4-6,共3页

基　　金：佛山科学技术学院学术基金项目资助;佛山科学技术学院大学生创新创业训练计划项目资助;广东大学生科技创新培育专项资金资助项目(编号:pdjh2022b0549);佛山市土壤污染修复工程技术研究中心。

摘　　要：中频磁控溅射沉积金属薄膜是真空镀膜技术中最常用的技术之一,目前在科学研究及工业生产中都得到了长足发展。在沉积金属薄膜过程中的工艺参数如中频电流、脉冲负偏压、沉积时间等对薄膜结构及性能的影响研究多分散于不同的文献中,不利于对这些参数的认识与深入理解。本文综述了中频磁控溅射沉积金属薄膜中工艺参数的作用,通过对沉积薄膜过程中工艺参数的总结,可加深这些参数对薄膜结构及性能影响规律的理解,促进真空镀膜技术的工艺开发及技术进步。

关 键 词：中频磁控溅射 金属薄膜 研究进展 

分 类 号：O48[理学—固体物理]