上海交大提出自组装单分子膜掺杂技术新方向  

作　　者：新型 

出　　处：《化工新型材料》2018年第2期276-276,共1页New Chemical Materials

摘　　要：上海交通大学密西根学院但亚平课题组研究发现，自组装单分子膜掺杂会在硅衬底引入碳缺陷，从而降低硅中磷杂质的电学激活率。研究人员由此提出了自组装单分子膜掺杂技术的研究方向，为发展无缺陷态的单分子膜掺杂技术奠定了基础。相关成果日前发表于《自然一通讯》杂志。

关 键 词：自组装单分子膜 掺杂技术 上海交大 上海交通大学 研究人员 缺陷态 课题组 硅衬底 

分 类 号：O649[理学—物理化学]