气体流量对磁控溅射制备ZnO薄膜沉积速率以及阻隔能力的影响  

作　　者：王超楠 杨林 鲁听 黄保进 江志明 

机构地区：[1]贵州民族大学材料科学与工程学院,贵州贵阳550025 [2]宁波华丰包装科技有限公司,浙江宁波315480

出　　处：《科技风》2018年第15期126-126,共1页

基　　金：贵州民族大学人才引进项目(16yjrcxm019);贵州民族大学学生科研项目(16bksxm011)

摘　　要：采用射频磁控溅射技术,以氧化锌(ZnO)为靶材,在PET塑料表面沉积制备了氧化锌薄膜包装材料,研究了氩气(Ar)流量对所制备的ZnO薄膜结构、形貌、沉积速率、透氧率以及透湿率的影响。实验结果表明,当氩气流量为40 sccm时,ZnO薄膜表面均匀且致密,其氧气透过率可以达到1.14 cc/(m^2.d),水蒸汽透过率为0.43 g/(m^2.d)。ZnO films were prepared by RF magnetron sputtering on PET substrates with ZnO target. The influence of the argon gas（ Ar）flow on the structure,morphology,deposition rate and the barrier properties was studied. The results demonstrated that the best Ar flow rate was 40 sccm,the deposited ZnO films were denser and smoother,the OTR of the film was 1. 14 cc/（ m^2. d）,WVTR was 0. 43 g/（ m^2. d）.

关 键 词：射频磁控溅射技术 氧化锌薄膜 氩气流量 透过性 

分 类 号：TQ325.12[化学工程—合成树脂塑料工业]