第二十讲 真空离子镀膜  

No.20:Vacuum ion plating

作　　者：张以忱[1] 

机构地区：[1]东北大学,辽宁沈阳110004

出　　处：《真空》2018年第4期78-80,共3页Vacuum

摘　　要：（接2018年第3期第72页）假设轰击离子将全部能量都转移给沉积膜层原子,由式（1）和式（2）可知每个沉积膜层原子的能量Ep为Ep=eUini/n=（Mr.ji/Rv）e·Ui×6.3×10-3eV（5）因此可得离子流密度ji为ji≈159（Rv·ρ·Ep/Mr·eUi）mA/cm-2（6）式中Mr为膜层原子的相对平均摩尔质量,g/mol;Rv为沉积原子在基体表面的成膜速率.

关 键 词：离子轰击 负电位 离子镀 真空离子镀膜 负偏压 柱状晶 

分 类 号：O484[理学—固体物理] TB4[理学—物理]