半导体产业的关键材料——光刻胶  

作　　者：徐宏 王莉[1] 何向明[1] 

机构地区：[1]清华大学核能与新能源技术研究院

出　　处：《新材料产业》2018年第9期35-40,共6页Advanced Materials Industry

基　　金："清华大学-张家港氢能与先进锂电技术联合研究中心"支持

摘　　要：半导体芯片是信息技术的重要基础。电子元件在芯片上集成度的迅速提高是集成电路性能提高、价格降低的重要原因,即著名的摩尔定律。但随着制程越发接近半导体的物理极限,电子元件将会难以继续缩小下去。在半导体技术发展的过程中,光刻胶（photoresist）扮演了至关重要的角色。

关 键 词：半导体产业 光刻胶 半导体芯片 材料 电子元件 半导体技术 信息技术 电路性能 

分 类 号：TN30[电子电信—物理电子学]