用光刻法集成光学元件  

作　　者：徐艳英 

出　　处：《光机电信息》2002年第9期29-31,共3页OME Information

摘　　要：平面光刻术为制造光纤通信用的各种光学元件提供了一种能大幅度降低生产费用的先进方法.与半导体工业技术相同,采用平面光刻集成法可在给定劳动量、资本和材料的条件下增加组件的数量,也可通过增加元件的整体功能减少元件数量(见图1).

关 键 词：光刻法 集成 光学元件 

分 类 号：TN256[电子电信—物理电子学]