基于异构计算的光刻机曝光分系统剂量控制板的分析与设计  

作　　者：张南峰[1] 许武军[1] 赵秋锦[1] 黄栋梁 

机构地区：[1]东华大学信息科学与技术学院,上海201620 [2]上海微电子装备有限公司,201203

出　　处：《电子制作》2013年第2X期61-62,共2页Practical Electronics

摘　　要：在集成电路制造设备中,投资最大、技术最复杂同时也是最关键的设备是光刻机。本文研究的剂量控制板是光刻机曝光分系统剂量控制模块中重要硬件板卡,也是硅片扫描控制系统与其硬件曝光分系统的接口板。剂量控制是剂量控制板最重要的任务,即当需要执行曝光时,剂量控制板负责控制触发激光并测量脉冲能量值。剂量控制包含复杂的实时并发多任务管理。

关 键 词：光刻机 剂量控制板 曝光分系统 剂量控制 异构计算 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]