不同镀膜流程对多晶硅背钝化效率和EL的影响  

Effect of different coating processes on polysilicon back-passivation efficiency and EL

作　　者：江坚[1] 陈刚 张斌[1] 张剑峰[1] 王仕鹏[1] 黄海燕[1] 陆川[1] 

机构地区：[1]浙江正泰太阳能科技有限公司

出　　处：《太阳能》2018年第3期48-49,53,共3页Solar Energy

摘　　要：介绍了一种通过调整背钝化工艺流程改善多晶硅太阳电池缺陷的方法,通过将正背背流程改为背正背流程,电池片EL舟印的问题可以解决,同时还可提升电池片效率。

关 键 词：PECVD 背正背流程 舟印 电池片效率 背钝化 EL ALD 

分 类 号：TM914.4[电气工程—电力电子与电力传动]