检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
机构地区:[1]南京中电熊猫平板显示科技有限公司
出 处:《名城绘》2018年第1期305-305,共1页
摘 要:光刻设备(曝光机)因其单价最贵,精度最高,在TFTLCD工艺中起着举足轻重的作用。其原理是通过照射特定紫外光源,透过掩膜版并在涂有光刻胶的玻璃基板上光刻形成特定的TFT图案。其主要采用高压水银灯作为紫外光源(图1)。曝光灯为一次性消耗品,更换周期短,价格贵,成本花费十分高昂。因此如何能够降低高压水银灯的成本成了最关键的课题。
关 键 词:曝光机 曝光灯 高压水银灯 电流保护 延寿 单效
分 类 号:TN305.7[电子电信—物理电子学]
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