新型液晶微光学器件—分子取向的设计和先进光刻技术  

作　　者：新型 

机构地区：[1]不详

出　　处：《化工新型材料》2019年第2期274-274,共1页New Chemical Materials

摘　　要：近日,肯特州立大学液晶研究所的韦齐和教授所率领的研究组,成功地将液晶光学器件用于高斯激光光束的整形。在该文中,根据广义Snell定律与Pancharatnam-Berry(PB)相,他们通过设计局域的液晶分子排布便可以直接作用于入射光束的局域相位,进而修改透射光束的形状和光强分布。

关 键 词：微光学器件 液晶分子 光刻技术 分子取向 设计 Snell定律 州立大学 激光光束 

分 类 号：O753.2[理学—晶体学]