第二十讲 真空离子镀膜  

No.20:Vacuum ion plating

作　　者：张以忱 

机构地区：[1]东北大学

出　　处：《真空》2019年第4期78-80,共3页Vacuum

摘　　要：如图21所示,用高熔点金属钽(或钨)管做阴极,坩埚做阳极,待真空室抽至高真空后,钽管中通过氩气,首先用数百伏电压点燃气体产生阴极辉光放电。由于空心阴极效应,钽管中电流密度很大,大量的氩离子轰击钽管管壁,使钽管温度升高至2300K以上,钽管发射大量热电子,放电电流迅速增加,电压下降,辉光放电转变为弧光放电。

关 键 词：高真空 离子镀膜 空心阴极效应 辉光放电 电压下降 高熔点金属 氩离子轰击 电流密度 

分 类 号：O484[理学—固体物理] TB43[理学—物理]