TFT-LCD配向膜涂覆工艺中膜厚不均改善研究  

作　　者：陈维诚 林强 江桥 滕玲 舒文 

机构地区：[1]合肥京东方光电科技有限公司Cell分厂

出　　处：《电子世界》2019年第16期51-52,共2页Electronics World

摘　　要：1引言TFTLCD生产工艺中,配向膜(Polyimide)厚薄不均在涂覆工艺中是常见的一种不良;局部范围内出现的配向膜厚度不均易产生黑白点、Mura(亮度不均一)等不良,影响产品良率,造成了严重的生产成本损失,目前解决配向膜厚度不均一已成为个急需解决的难题。

关 键 词：涂覆工艺 TFT-LCD 膜厚 TFTLCD 厚度不均 生产工艺 Mura 生产成本 

分 类 号：TN873.93[电子电信—信息与通信工程]