检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
机构地区:[1]北京京东方显示技术有限公司
出 处:《电子世界》2019年第15期22-23,共2页Electronics World
摘 要:随着HADS产品需求的增加,大批量生产中DCS不良问题极大影响了产品良率。HADS产品产生DCS线不良的主要原因为PVX镀膜及曝光工艺中,PVX膜层Particles及PVX Open导致Data线与Com电极导通。本文针对PVX PT导致的DCS不良,从PECVD PVX镀膜前清洗工艺和PVX镀膜方式来改善DCS。结论表明,PVX清洗单元安装PVA上毛刷及增加HPMJ压力至110bar可使DCS中PVX PT占比降低12.3%;PVX分两次镀膜方式可使DCS下降40%。
关 键 词:清洗工艺 工艺改善 DCS PVX PECVD 镀膜
分 类 号:S43[农业科学—农业昆虫与害虫防治]
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在链接到云南高校图书馆文献保障联盟下载...
云南高校图书馆联盟文献共享服务平台 版权所有©
您的IP:216.73.216.49