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检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:席莎[1] 安耿[1] 李晶[1] 韩强[1] 刘仁智[1] 赵虎[1] XI Sha;AN Geng;LI Jing;HAN Qiang;LIU Ren-zhi;ZHAO Hu(Technical Center,Jinduicheng Molybdenum Co.,Ltd.,Xi'an 710077,Shaanxi,China)
机构地区:[1]金堆城钼业股份有限公司技术中心
出 处:《中国钼业》2019年第6期50-53,共4页China Molybdenum Industry
摘 要:将钼钛合金靶材在同一溅射设备、同一溅射工艺下进行磁控溅射实验,研究不同粒径钼粉原料对靶材溅射薄膜性能的影响。通过XRD、SEM和直流四探针法分析结果表明,颗粒大小均匀、无团聚的大粒径钼粉制备出的靶材,其溅射薄膜性能更优异。The Mo-Ti thin film was prepared based on glass substrate with Mo-Ti as the target by magnetic control sputtering equipment,characterized by XRD,SEM and four probe DC method and the effect of molybdenum powder particle size on the properties of Mo-Ti film was discussed.The results show that the property of Mo-Ti film was better for the large particles size with uniform and free-agglomeration of molybdenum powder.
分 类 号:TG146.4+12[一般工业技术—材料科学与工程]
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