眼见为实(下):隐身之反铁磁畴  

作　　者：刘俊明[1] 

机构地区：[1]南京大学物理学院固体微结构物理国家重点实验室,南京210093

出　　处：《物理》2020年第5期326-333,共8页Physics

摘　　要：1引子上篇所描绘的磁畴成像方法,虽然有些方法所搭载的工具很强大,比如洛伦兹成像搭载的TEM、桑巴成像搭载的SEM等,都与电子显微镜有关,但这些方法的基本机制都可以在经典电磁学框架下描述,也因此这些成像的衬度只是决定于成像位点附近的磁矩或杂散场(矢量,有大小和方向)。分辨率问题可以各显神通,但这些成像技术一个根本性的缺憾是:对材料组成不敏感。

关 键 词：杂散场 洛伦兹 经典电磁学 眼见为实 成像技术 电子显微镜 成像方法 

分 类 号：O482.525[理学—固体物理]