两种金刚石碳膜的制备及其场发射特性研究  

Study on Field Enhancement Characteristics of Field Emission of Diamond Polycrystalline Carbon Films

作　　者：高金海 张洁[1] 李成刚 张兵临 GAO Jinhai;ZHANG Jie;LI Chenggang;ZHANG Binglin(Department of Physics,Zhengzhou Teachers College,Zhengzhou He’nan 4500442,China;Key Laboratory of Materials Physics of Education Ministry of China,and Department of Physics,Zhengzhou University,Zhengzhou He’nan 450052,China)

机构地区：[1]郑州师范学院物理与电子工程学院,河南郑州450044 [2]郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室,河南郑州450052

出　　处：《电子器件》2020年第4期720-723,共4页Chinese Journal of Electron Devices

基　　金：教育部科学技术重点项目(205091);2018年河南省科技厅科技攻关项目(182102210140);2018年河南省重点研发与推广专项项目(182102210564);2017年度河南省科技计划项目(172102210115)。

摘　　要：对相同的衬底进行不同的处理后,放入微薄等离子体腔中,在不同的条件下制备出纯平金刚石碳膜和球状金刚石聚晶颗粒碳膜。通过扫描电镜、拉曼光谱、X射线分析碳膜的形貌与结构,利用场发射二级结构研究两种金刚石碳膜的场发射性能。简单分析了不同碳膜的成因和场发射性能。Two kinds of diamond films are prepared under different conditions after the substrate is treated in two ways,namely,plain diamond film and spherical diamond polycrystalline grain film.The morphology and structure of the thin films are analyzed by SEM,Raman spectroscopy and X-ray.The genesis and field emission properties of different films are analyzed.

关 键 词：微波等离子体化学气相沉积 场致电子发射 纯平金刚石碳膜 球状金刚石聚晶颗粒碳膜 

分 类 号：TB383[一般工业技术—材料科学与工程] O484[理学—固体物理]