多尺度微纳米流道光刻压印工艺及关键技术研究  

Research on the key photolithography technology of multi-scale PDMS micro-nano channel

作　　者：陈建刚[1,2] 舒林森[1] 赵知辛[1] 李建刚[1] CHEN Jian-gang;SHU Lin-sen;ZHAO Zhi-xin;LI Jian-gang

机构地区：[1]陕西理工大学机械工程学院,汉中723001 [2]西安交通大学机械工程学院,西安710049

出　　处：《制造业自动化》2020年第11期6-10,共5页Manufacturing Automation

基　　金：国家自然科学青年基金(51505268);陕西省教育厅2016年专项科研项目(16JK1147);陕西理工大学科研计划资助项目(SLGKY2017-22)。

摘　　要：光刻压印是多尺度微纳米流道工艺设计的关键技术,依据SU8-2025光刻胶与波长为350nm^400nm之间紫外激光光化学作用产生强酸的原理,选用黏度2500cSt、最大复型高度25的SU8-2025负性光刻胶和聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethyl Methacrylate,PMMA)正性光刻胶,通过微纳米套刻工艺的优化,实现了多尺度微纳米流道复型压印光刻,解决了涂胶、套刻、温控、显影以及微纳米结构光学测量等关键的技术问题,提高了微纳米流道内表面的质量,为可降解血管支架的性能检测提供了新的研究思路,也为多尺度复杂异形体的复型制造研究和发展提供必要的科学依据。

关 键 词：紫外激光 SU8-2025 光刻工艺 微纳流道 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]