显示面板工艺中氮化硅薄膜应力的控制和影响  

作　　者：苏海东 闫雷 谢建云 方业周 李峰 

机构地区：[1]鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司

出　　处：《电子世界》2020年第23期86-88,92,共4页Electronics World

摘　　要：在显示面板工艺中,高质量的氮化硅薄膜扮演重要角色,本文研究了利用等离子增强型化学气相沉积制备的氮化硅薄膜应力情况。通过改变沉积工艺条件,如射频功率,腔室压强,沉积温度,基于曲率变化法利用Stony公式测得不同条件下的应力值并绘制应力变化曲线。详细分析了镀膜工艺条件改变对氮化硅薄膜应力的影响。并通过实验测试三种条件下薄膜的脱落和龟裂情况,表明随着薄膜压应力向张应力转化,薄膜脱落数量逐渐减少,龟裂数量逐渐增加。此外,还总结了薄膜应力造成玻璃基板收缩或扩张形变量的公式,给成盒工艺中对位提供基础。

关 键 词：氮化硅薄膜 玻璃基板 显示面板 沉积工艺 镀膜工艺 薄膜应力 龟裂 射频功率 

分 类 号：TQ1[化学工程]