封面图片说明  

作　　者：李春伟[1,2] 田修波[2] 姜雪松[1] 徐淑艳[1] 

机构地区：[1]东北林业大学工程技术学院 [2]先进焊接与连接国家重点实验室(哈尔滨工业大学)

出　　处：《哈尔滨工业大学学报》2021年第2期154-154,共1页Journal of Harbin Institute of Technology

摘　　要：封面图片来自本期论文“高离化率电-磁场协同增强HiPIMS高速沉积特性”,是采用电-磁场协同增强HiPIMS新技术制备的钒膜AFM三维立体表面形貌图.高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)是一门新兴的高度电离化物理气相沉积技术,具有峰值功率密度高、脉冲频率和占空比低的放电特征,可获得较高溅射金属离化率和放电系统等离子体密度,有利于制备高硬度、高耐摩擦磨损性、高耐腐蚀性及抗高温氧化性优异的高质量薄膜/涂层.

关 键 词：抗高温氧化性 物理气相沉积 高离化率 高功率脉冲磁控溅射 脉冲频率 摩擦磨损性 等离子体密度 三维立体 

分 类 号：TB3[一般工业技术—材料科学与工程]