ADS产品磁控溅射法制备SD层的膜层黑点  

作　　者：王效坤 房伟华 刘飞 郭如旺 朴祥秀 刘祖宏 

机构地区：[1]合肥京东方光电科技有限公司

出　　处：《电子世界》2021年第2期120-124,共5页Electronics World

摘　　要：ADS产品SD制程时产生的膜层黑点不良,影响产品良率。本文研究了膜层黑点不良的形成机理和影响因素,结果表明:膜层黑点不良是膜层沉积时,底部膜层水气释放导致的膜层鼓包;SD层前制程工艺Strip0(1st ITO Strip)工序导致的干燥不良,是膜层黑点产生的根本原因;SD设备水气去除能力的差异,导致了成膜机台黑点不良发生率的不同。

关 键 词：黑点 去除能力 磁控溅射法 SD 膜层 ADS 

分 类 号：S43[农业科学—农业昆虫与害虫防治]