颞叶癫痫视空间工作记忆障碍皮质形态学研究进展  

作　　者：黄书蕾 于云莉 

机构地区：[1]贵州医科大学附属医院神经内科,贵阳550004

出　　处：《中国神经精神疾病杂志》2021年第2期117-120,共4页Chinese Journal of Nervous and Mental Diseases

基　　金：贵州省科技计划项目(编号:黔科合LH字[2016]17238)。

摘　　要：癫痫(epilepsy)为一种中枢神经系统疾病^([1])。其中患病率最高的是颞叶癫痫(temporal lobe epilepsy,TLE)^([2-3])。患者的多种认知功能受损,且记忆力损害最明显^([4])。近年研究发现,TLE患者存在视空间工作记忆(visuo-spatial working memory,VSWM)障碍,使其日常生活能力受到干扰,但对VSWM损害的机制有待进一步研究^([5-6])。MRI技术研究伴认知功能障碍的TLE^([7]),发现其与大脑皮质的形态学变化关系密切^([8])。基于体素的形态学分析(voxel-based morphometry,VBM)和基于表面的形态学分析(surface-based morphometry,SBM)是常用的两种形态学分析方法,可对体素空间中灰质体积、白质体积、灰质密度等指标和皮层空间中皮质厚度、皮质表面积、脑沟深度、分形维度等指标进行分析^([9])。这些方法有助于TLE患者VSWM障碍的进一步探讨,致病机理的进一步研究,以及为临床治疗提供新的依据及方向。本文就TLE患者VSWM障碍、TLE皮质形态学的改变以及皮质形态学分析方法的应用进行综述。

关 键 词：颞叶癫痫 视空间工作记忆 皮质形态学 基于体素的形态学分析 基于表面的形态学分析 

分 类 号：R742.1[医药卫生—神经病学与精神病学]