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作 者:刘林涛[1] 张勇[1] 吕海兵[1] 何飞 LIU Lintao;ZHANG Yong;LYU Haibing;HE Fei(Department of Corrosion and Protection,Northwest Institute for Non-ferrous Metal Research,Xi'an 710016)
机构地区:[1]西北有色金属研究院,腐蚀与防护研究所,西安710016
出 处:《材料导报》2021年第S01期160-162,185,共4页Materials Reports
摘 要:本文介绍了电子束物理气相沉积(EB-PVD)技术制备热障涂层的界面失效行为,并在此基础上综述了活性元素对粘结层/热生长氧化物层(TGO)界面性能的作用机制。This paper have introduced the interfacial failure behavior of EB-PVD thermal barrier coatings.On this basis,the research progress of themechanism of interface property influenced by multiple reactive elements modification of thermal barrier coatings deposited by EB-PVD was summarized.
关 键 词:电子束物理气相沉积 热障涂层 热生长氧化物层 界面性能
分 类 号:TG174.4[金属学及工艺—金属表面处理]
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