光掩膜缺陷和清洗:一种新环境  

作　　者：鄢红军 

机构地区：[1]深圳清溢光电股份有限公司,广东深圳518000

出　　处：《现代盐化工》2021年第3期22-23,共2页Modern Salt and Chemical Industry

摘　　要：以往清洗光掩膜时采用的清洗技术用到了浓硫酸、SC-1等溶剂,会在一定程度上导致硫酸根以及铵根离子残留在膜表面。随着微影技术时代的到来,光掩膜在使用一段时间后,能够从残留的离子中析出部分硫酸盐晶体,被业界称为光掩膜"Haze"。受到大量结晶的影响,光掩膜的穿透率会降低,无法保持薄膜晶体管(TFT)的完整性,进而对TFT生产厂家造成极大的影响。因此,在实际生产阶段,采用新兴的臭氧水与深紫外曝光清洗技术,取代以往的硫酸清洗技术,并以批量生产为基础,优化相关工艺、设备的设计以及日常维护程序,以供参考。

关 键 词：光掩膜 清洗技术 结晶生长 深紫外光照射 

分 类 号：TB383.2[一般工业技术—材料科学与工程]