AIChE封面报道华东理工大学原子层沉积ALD反应器多尺度模拟研究  

出　　处：《膜科学与技术》2021年第4期128-128,共1页Membrane Science and Technology

摘　　要：华东理工大学化工学院膜科学与工程许振良教授团队,与美国约翰霍普金斯大学、普林斯顿大学等单位合作,开发了一套原子层沉积(ALD)反应器多尺度模型,可用于预测ALD反应器尺度高真空流体流动、传热、传质过程和衬底纳米孔道内薄膜沉积过程.该研究工作以“Numerical simulation of atomic layer deposition for thin deposit formation in a mesoporous sub-strate”为题(DOI:10.1002/aic.17305),以封面形式发表于AIChE Journal,被期刊评为“Top Tier”等级,同时将作为2021年8月Editor's Choice论文在期刊主页宣传一个月.

关 键 词：普林斯顿大学 封面报道 多尺度模型 原子层沉积 DOI 传质过程 高真空 多尺度模拟 

分 类 号：TQ051.893[化学工程]