基于DEMATEL/ISM集成模型的隐性逃课影响因素分析  

作　　者：王秀红[1] 梁帅鹏 韩光平[1] 邓阳 

机构地区：[1]郑州航空工业管理学院,河南郑州450015

出　　处：《大学教育》2021年第11期93-95,共3页University Education

基　　金：河南省十三五教育科学规划项目(编号:2018-JKGHYB-0166);校教改项目(编号:zhhjy19-27);校研究生教育质量提升项目(编号:2019YJSKC3,2020YJSJG5)。

摘　　要：文章针对新形势下隐性逃课的特点,寻找关键影响因素及其解决路径,解决隐性逃课普遍和多发问题。采用系统观,构建影响隐性逃课的一轴三螺旋模型,确定隐性逃课影响因素。采用DEMATEL/ISM集成模型刻画因果关系及关联模型,确定导致隐性逃课的最关键因素、中间因素和外围因素,并给出了解决策略和路径。

关 键 词：隐性逃课 三螺旋模型 DEMATEL ISM 关键影响因素 

分 类 号：G640[文化科学—高等教育学]