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作 者:鄢豪 管英柱 YAN Hao;GUAN Yingzhu(School of Petroleum Engineering,Yangtze University,Wuhan 430100,China)
出 处:《电镀与涂饰》2022年第11期791-796,共6页Electroplating & Finishing
摘 要:介绍了化学镀铜常用的主盐、配位剂、还原剂及添加剂。综述了碳纤维、碳纳米管、Al_(2)O_(3)陶瓷和SiC颗粒化学镀铜的研究进展,指出了非金属化学镀铜存在的问题,并展望了该领域未来的研究方向。The main salts,complexing agents,reductants,and additives often used in electroless copper plating were introduced.The research progress of electroless copper plating on several kinds of nonmetals such as carbon fiber,carbon nanotube,Al_(2)O_(3)-based ceramic,and SiC particle was reviewed.The future research direction of electroless copper plating on nonmetals was proposed.
分 类 号:TQ153.14[化学工程—电化学工业]
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