LED用蓝宝石平片湿法清洗研究  

作　　者：罗荣煌 

机构地区：[1]福建中晶科技有限公司,福建龙岩364101

出　　处：《电子元器件与信息技术》2022年第6期22-24,28,共4页Electronic Component and Information Technology

摘　　要：目前的工业化生产中主要通过化学机械抛光来清洗平片,经过抛光后的平片表面布满悬挂键,表面活性高,极易吸引污染物。本文对LED用蓝宝石平片湿法清洗工艺展开研究,通过正交试验,研究清洗参数对蓝宝石平片良率、明缺和暗缺的影响。实验结果表明:当去离子水/双氧水/硫酸配比1:1:3.5、时间10min、温度110℃时,有着最好的清洗效果。使用优化后的清洗工艺参数,进行千片级的清洗验证,良率达到93%,表面残留颗粒降至5颗以内。本研究揭露了蓝宝石平片的相关清洗方法与参数,并进行了批量清洗验证,对后续工业化清洗提供了参考。

关 键 词：图形化蓝宝石衬底(PSS) SPM 湿法清洗 正交试验 

分 类 号：TG175[金属学及工艺—金属表面处理]