三水平最小低阶投影均匀设计的设计效率  

Design Efficiency of Three -Level Minimum Projection Uniform Designs

作　　者：柏启明 黄兴友 薛慧丽 李洪毅[1] BAI Qiming;HUANG Xingyou;XUE Huili;LI Hongyi(College of Mathematics and Statistics,Jishou University,Jishou 416000,Hunan China)

机构地区：[1]吉首大学数学与统计学院,湖南吉首416000

出　　处：《吉首大学学报（自然科学版）》2022年第2期31-37,共7页Journal of Jishou University(Natural Sciences Edition)

基　　金：国家自然科学基金资助项目(12161040,11961027);湖南省自然科学基金资助项目(2020JJ4497,2021JJ30550);湖南省教育厅重点项目(19A403);湖南省研究生科研创新项目(CX20211054);吉首大学科研项目(JDY21009,JDY20057)。

摘　　要：为了研究三水平设计投影均匀性与设计效率的关系,在中心化L_(2)-偏差度量下,建立了强度为2的三水平正交设计的均匀性模式与设计效率的解析联系,对于强度为3的三水平正交表,最小低阶投影均匀性准则与设计效率准则等价.对于三水平设计,获得了均匀性模式紧的下界,该下界可以衡量设计是否为最小低阶投影均匀设计.Under the centered L_(2)-discrepancy,the analytical relationship between the uniformity pattern and design efficiency of three-level orthogonal designs with strength 2 is established.For the three-level orthogonal arrays with strength 3,the minimum projection uniformity criterion is equivalent to the design efficiency criterion.For the three-level designs,a tight lower bound of the uniformity pattern is obtained,which can measure whether the design is the minimum projection uniform design.

关 键 词：最小低阶投影均匀设计 设计效率 正交设计 中心化L_(2)-偏差 下界 

分 类 号：O212.6[理学—概率论与数理统计]