检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:王德瑜 吉祥书 顾凯旋 WANG Deyu;JI Xiangshu;GU Kaixuan(Zhejiang Wanzheng Electronics Technology Co.,Ltd.,Zhejiang 314107,China)
出 处:《集成电路应用》2022年第9期24-25,共2页Application of IC
摘 要:阐述四种正凹蚀制作工艺的优缺点,分析不同材料、不同参数对凹蚀量的影响,并通过实验数据,得出一种具有参考意义的正凹蚀工艺流程和控制方法。This paper introduces the advantages and disadvantages of four kinds of positive etching process,analyzes the influence of different materials and different parameters on the amount of etching,and through the experimental data,gives a kind of positive etching process and control method with reference significance.
分 类 号:TN41[电子电信—微电子学与固体电子学]
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在链接到云南高校图书馆文献保障联盟下载...
云南高校图书馆联盟文献共享服务平台 版权所有©
您的IP:216.73.216.229